沉积技术

溅射沉积

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等离子体中包含的高能粒子的影响从目标材料的表面喷出原子,然后将其凝结在衬底的表面上以产生薄膜。

薄膜沉积包括在衬底上生长多层材料相关联的许多技术,其厚度可以在小于1nm至几微米的范围内。 我们的真空设备由工程师为客户量身定制,以满足每个客户的需求,并且能够整合以下任何(或全部):

电子束蒸发

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利用加速电子轰击镀膜材料,电子的动能转化为热能,使镀膜材料融化并蒸发成膜。

电阻式热蒸发

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使用电流来加热材料,使其达到蒸发点熔融并沉积到基片上。

发光薄膜控制

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Apex是我们的光学控制包,可以集成到我们的PVD平台中。

集成手套箱

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集成手套箱,将在惰性气氛环境中完成PVD镀膜工艺。

可变角度样品台

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通过这种新颖的设计来提高镀膜的均一性。可同时实现样品台的自转,公转及倾斜功能。

离子辅助沉积

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宽束离子源通常具有溅射或电子束源,将具有一定范围离子能量的分散离子束引向衬底。可实现基片的清洗及辅助镀膜。

过程增强技术

您所定制的沉积平台可扩展多种不同的增强功能,满足多样化需求。