沉积技术
溅射沉积
利用高能粒子轰击靶材表面，使靶材原子或分子被溅射出来并沉积在基材表面形成薄膜。
薄膜沉积包括在衬底上生长多层材料相关联的许多技术，其厚度可以在小于1nm至几微米的范围内。 我们的真空设备由工程师为客户量身定制，以满足每个客户的需求，并且能够整合以下任何（或全部）：
电子束蒸发
利用加速电子轰击镀膜材料，电子的动能转化为热能，使镀膜材料融化并蒸发成膜。
电阻式热蒸发
使用电流/电阻加热材料使其升华并沉积在基底表面上。
发光薄膜控制
Apex是我们的光学控制包，可以集成到我们的PVD平台中。
集成手套箱
集成手套箱，将在惰性气氛环境中完成PVD镀膜工艺。
可变角度样品台
通过这种新颖的设计来提高镀膜的均一性。可同时实现样品台的自转，公转及倾斜功能。
离子辅助沉积
宽束离子源通常具有溅射或电子束源，将具有一定范围离子能量的分散离子束引向衬底。可实现基片的清洗及辅助镀膜。
过程增强技术
您所定制的沉积平台可扩展多种不同的增强功能，满足多样化需求。
