我和Angstrom Engineering密切合作购买和安装了三个独立的沉积/手套箱系统。 我可以诚实地说，AE公司的产品我很满意，我毫不犹豫地向您推荐他们作为供应商。 他们的设备质量很好。 设计和采购过程非常顺利，安装非常彻底，包括非常详细的培训，并协助我们使用和修改设备。 他们的良好声誉是完全应得的。
在离子辅助沉积（IAD）中，离子源将具有一定范围的离子能量的分散束引向衬底。 该源通常与溅射或电子束源一起工作。 可以使用诸如氩气的惰性气体。 或者，如果期望在膜生长期间进一步的化学反应，则可以使用诸如氧和氮的反应性气体。 IAD工艺允许通过表面反应，膜密度控制和改进的附着力进行高级工艺膜生长。
离子辅助沉积和清洁可用于我们的大多数系统。 请与我们联系，看看是否适合您的流程。
AE公司通过向系统添加离子源来提高辅助沉积。 Angstrom Engineering的软件解决方案可以精确控制这些复杂的同时进程。
Scott Watkins博士 - CSIRO - 澳大利亚墨尔本
离子辅助沉积

当我们一起工作时，会发生惊人的事情。 您与我们创新团队的辉煌创意将创造出将使您的研究或生产达到新的水平的工具。 我们期待着您的回音：

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