我从Angstrom Engineering 购买并安装了三套独立的沉积/手套箱系统。 坦白说,AE公司的产品我很满意,我也毫不犹豫地向您推荐他们作为供应商。 他们的设备质量很好,设计和采购过程非常顺利,安装非常专业,包括非常详细的培训,并协助我们后续使用和维护设备, 他们的产品值得信赖。
在离子辅助沉积(IAD)中,离子源将具有一定范围的离子能量的分散束引向衬底。 该源通常与溅射或电子束源一起工作。 可以使用诸如氩气的惰性气体,如果期望在膜生长期间进一步的化学反应,则可以使用诸如氧和氮的反应性气体。 IAD工艺允许通过表面反应,膜密度控制和改进的附着力进行高级工艺膜生长。
离子辅助沉积和清洁可用于我们的大多数系统。 请与我们联系,看看是否适合您的流程。
AE公司通过向系统添加离子源来提高辅助沉积。 Angstrom Engineering的软件解决方案可以精确控制这些复杂的进程。
离子辅助沉积
Scott Watkins博士 - CSIRO - 澳大利亚墨尔本
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