我和Angstrom Engineering密切合作购买和安装了三个独立的沉积/手套箱系统。 我可以诚实地说,AE公司的产品我很满意,我毫不犹豫地向您推荐他们作为供应商。 他们的设备质量很好。 设计和采购过程非常顺利,安装非常彻底,包括非常详细的培训,并协助我们使用和修改设备。 他们的良好声誉是完全应得的。
在离子辅助沉积(IAD)中,离子源将具有一定范围的离子能量的分散束引向衬底。 该源通常与溅射或电子束源一起工作。 可以使用诸如氩气的惰性气体。 或者,如果期望在膜生长期间进一步的化学反应,则可以使用诸如氧和氮的反应性气体。 IAD工艺允许通过表面反应,膜密度控制和改进的附着力进行高级工艺膜生长。
离子辅助沉积和清洁可用于我们的大多数系统。 请与我们联系,看看是否适合您的流程。
AE公司通过向系统添加离子源来提高辅助沉积。 Angstrom Engineering的软件解决方案可以精确控制这些复杂的同时进程。
Scott Watkins博士 - CSIRO - 澳大利亚墨尔本
离子辅助沉积
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