RETICLE® 离子源溅射系统

我们的Reticle®离子束溅射沉积系统的设计和工程是为了创造最高纯度、密度和稳定性的精确光学薄膜。Angstrom Engineering的Reticle®系统为那些希望将任何光学设计转化为高性能薄膜的人提供了一个交钥匙的解决方案。

这是一个理想的系统，可用于抗反射（AR）涂层、高反射（HR）涂层、激光二极管棒的涂层、电信光学过滤器以及氧化钒沉积等应用。Angstrom工程公司设计和设计每一个Reticle®平台，为我们在光学界的合作伙伴提供创造他们所需的具有优良纯度、密度和均匀性的薄膜的能力，所有这些都是以高度可重复和自动化的方式进行的。

ION BEAM SPUTTER DEPOSITION (IBSD)

Reticle®采用了IBS，在这种情况下，一束高能离子被加速射向包含待沉积材料的目标。精心设计的离子束聚焦光学装置将离子束完全限制在目标区域内，消除了任何污染的风险。IBSD工艺创造了一个高能量的沉积材料流，与蒸发工艺沉积的薄膜相比，其密度、硬度和表面粗糙度都有所提高。与传统的磁控溅射相反，IBD在高真空环境下进行，最大限度地减少了沉积薄膜中的惰性气体，提高了涂层的环境稳定性。IBSD工艺还可以采用二次离子源进行基底清洁和能量辅助，基底加热进行反应性沉积，以及原位光学监测或椭圆光度法进行临界层厚度终止。对于精确和复杂的光学涂层，请选择Angstrom Engineering的离子束溅射沉积系统。

Reticle®选型？

我们的Reticle系统可以提供工程和定制设计服务。如果您有独特的要求，我们很乐意设计一个Reticle系统来满足您的特定需求。无论你是对100微米宽的激光二极管条进行镀膜，还是对整批直径300毫米的晶圆进行镀膜，都有一个Reticle®平台可以实现。Reticle®100让你开始在单个晶圆上涂抹光学薄膜。Reticle®200允许更多的工艺改进、监测，并允许更大的单晶圆。Reticle®300是关于产量的，因为你可以一次批量处理多个较大的晶圆。