您的Nexdep拥有400mm x 400mm的底板，可容纳多达8个源和各种PVD工艺。 您的研究目标，生产要求或应用程序的最终指标将告诉我们如何配备您的Nexdep。 让我们共同合作，设计出完全符合您要求的系统。
这个PVD平台提供经济性和多功能性之间的平衡。 它可以配备最强大的流程增强功能，而无需占用实验室或您的预算中的所有房间
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我们的Angstrom系统大大增加了我们的有机光伏器件制造工艺的可重复性，并为整个开发新器件提供了灵活而强大的系统。
高分辨率控制提供令人印象深刻的低速率稳定性和一致的掺杂比
高级数据记录和过程跟踪确保一致和可重复的过程
中央控制站管理每个模块并安排每个腔室的过程
自动PID控制回路调整可显着缩短过程开发时间
PC / PLC控制的单次，批次或自动镀膜的程序
NEXDEP PVD平台
一个紧凑，经济，全面的PVD工作台
博士Sean Shaheen博士 - 科罗拉多大学
AERES高级过程控制软件
独立控制多个腔室（如果适用）
复杂的程序可以轻松创建和修改
易于使用的高级集成软件平台
可编程扫描控制器确保蒸镀速率的精确控制
多样化的蒸发舟和加热丝及坩埚加热器
用于清洁和电影增强的离子源范围
等离子和离子束加工
扭矩传感坩埚分度器检测到位置
圆形，线性和圆柱形阴极可用
可编程扫描控制器配方存储
腔室内可安装多个电子束源
RF，DC，脉冲DC和HiPIM
辉光放电等离子体清洗
电阻式热蒸发
沉积源选项
电子束蒸发
各种源和电源选项

溅射

当我们一起工作时，会发生惊人的事情。 您与我们创新团队的辉煌创意将创造出将使您的研究或生产达到新的水平的工具。 我们期待着您的回音：

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我们想听听您的过程！
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