我们的组合楔形快门系统提供单个或多个行和/或列在更大的衬底区域内或衬底阵列内的受控曝光。 除了您的舞台灯具，您可以在单个工艺批次中执行层或掺杂剂变化，使其成为非常有价值的材料和工艺开发工具。 我们的客户还使用此功能在基板上创建梯度和阶梯膜。 这个功能可以添加到我们的许多舞台灯具。
改进的晶界迁移，后处理退火和控制表面反应只是基板温度控制应用的样本。 对于您的加热或冷却应用，我们有几个标准选项，以及为您的基板和温度范围定制解决方案的能力。
通过离子束或辉光放电进行原位清洁，可确保您的基底准备沉积。 为了去除天然氧化物或残留油，请考虑为系统添加清洁过程。

我们的行星样品台夹具可以大量改善基板的均匀性。 通常为Amod和EvoVac型号配置，行星夹具可以大大提高系统吞吐量。

如果您正在寻求控制胶片密度或改善附着力，电压可能是您的工艺解决方案。 AE公司可以配置许多阶段的直流或射频偏置。
我们的Angstrom系统大大增加了我们的有机光伏器件制造工艺的可重复性，并为整个开发新器件提供了灵活而强大的系统。
博士Sean Shaheen博士 - 科罗拉多大学
过程增强技术
基板温度控制
行星样品台
组合快门
电压偏置
基板清洁

当我们一起工作时，会发生惊人的事情。 您与我们创新团队的辉煌创意将创造出将使您的研究或生产达到新的水平的工具。 我们期待着您的回音：

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